Skripsi

Pengaruh ketebalan lapisan terhadap karakteristik thin film ZnO pada substrat kaca / Dwi Arista

Abstrak
ABSTRAK Arista Dwi. 2015. Pengaruh Ketebalan Lapisan terhadap Karakteristik Thin Film ZnO pada Substrat Kaca. Skripsi Jurusan Fisika Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Malang. Pembimbing (1) Nandang Mufti S.Si M.T Ph.D. (II) Drs. Abdulloh Fuad M.Si Kata Kunci Fotokatalitik Thin Film Spin Coating Hidrofobik Hidrofilik Pelapisan kaca dapat menggunakan bahan semikonduktor berbasis fotokatalis. Fotokatalis semikonduktor sudah banyak menarik perhatian karena dapat menghasilkan radikal bebas (O2.) yang dapat digunakan dalam berbagai aplikasi. ZnO merupakan salah satu semikonduktor yang bersifat fotokatalitik. Beberapa keunggulan dari ZnO adalah stabil terhadap cahaya tidak beracun ramah lingkungan fotosensitif biayanya murah dan mempunyai kemampuan dalam mendekomposisi senyawa organik dan bakteri berbahaya yang mengkontaminasi lingkungan. Oleh karena itu ZnO pada kaca dapat diaplikasikan sebagai pembersihan mandiri yang dikenal sebagai self cleaning glass bergantung pada tebal lapisan dimana ketebalan lapisan dapat dikontrol dengan mengatur kecepatan putaran dari spin coating. Pada penelitian ini dilakukan variasi kecepatan putaran spin coating yaitu 2000 rpm 3000 rpm dan 4000 rpm untuk mengontrol ketebalan. Bahan dasar yang digunakan adalah Zn(CH3COOH)2.2H2O (PA 99 5%) Ethylen glycol Dietanolamin (PA 99%) Isoprepenil Alkohol Glyserol dan Aseton. Metode sintesis yang digunakan adalah sol gel dan spin coating. Film yang dihasilkan dikarakterisasi dengan menggunakan SEM XRD dan UV-Spektofotometer. Struktur kristal dianalisis dengan software Highscore dan GSAS ukuran kristal dihitung melalui persamaan Scherrer sudut kontat dengan software imageJ. Hasil penelitian menunjukkan bahwa thin film ZnO telah berhasil disintesis dengan ukuran kristal berkisar antara 21 nm hingga 26 nm dimana semakin tebal lapisan maka ukuran kristal juga semakin besar. Nilai absorbsi semakin besar dengan bertambahnya ketebalan lapisan dengan nilai bandgap 3.2 eV. Hasil uji sifat hidrofobik dan hidrofilik menunjukkan semua sampel thin film ZnO dengan ketebalan 1.050 956 m 0.450 956 m 0.250 956 m dapat diaplikasikan sebagai self cleaning glass dimana hasil paling baik diperoleh dengan ketebalan thin film 1.050 956 m.

Informasi Detail

DDC

Rs 530.4275 ARI p

Prodi

Universitas Negeri Malang. Program Studi Fisika, 2015.

Deskripsi Fisik

xi, 104 lembar : il. , tab. ; 30 cm

Bahasa

Indonesia

No Reg

01946/KI/15

Edisi

Skripsi (Sarjana). Universitas Negeri Malang. 2015

Subjek

1. FILM TIPIS - KETEBALAN
2. THIN FILM

Pembimbing

1. Nandang Mufti ; 2. Abdulloh Fuad

Lampiran Berkas